濺射鈦靶材是指通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜設備在適當工藝條件下濺射沉積在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。濺射靶材廣泛應用于裝飾、工模具、玻璃、電子器件、半導體、磁記錄、平面顯示、太陽能電池等眾多領域，不同領域需要的靶材各不相同。濺射靶材根據(jù)成分可以分為純金屬靶材、合金靶材、氧化物靶材、硅化物靶材等多個品種；根據(jù)生產(chǎn)方法可以分為粉末靶、熔煉靶和噴涂靶；按照形狀可以分為平面靶材和管狀靶材，平面靶材又可以分為矩形靶和圓弧靶。

近年來，隨著電鍍和化學鍍等傳統(tǒng)表面改性技術的局限性日益突出，以物理氣相沉積(PVD)和化學氣相沉積(CVD)為主要工藝方法的真空鍍膜技術取得了突飛猛進的發(fā)展，其中PVD制備過程所需要的濺射靶材市場需求量日趨旺盛。據(jù)統(tǒng)計，全球范圍內(nèi)靶材的市場需求量每年以20％的速度增長，中國作為全球制造業(yè)大國，其靶材的市場需求量更是每 年以超過30％的速度增長。若不計貴金屬靶材，保守估計目前每年各領域所需要的靶材總量價值約100億元人民幣左右。

1、裝飾鍍膜

裝飾鍍膜主要是指手機、手表、眼鏡、衛(wèi)生潔具、五金零件等產(chǎn)品的表面鍍膜，不僅起到美化色彩的作用，同時也具有耐磨、耐蝕等功能。人民生活水平的不斷提高，要求越來越多的日常用品進行裝飾性鍍膜，因此裝飾鍍膜用靶材的需求量日益擴大。裝飾鍍膜用靶材主要品種有：鉻(Cr)靶、鈦(Ti)靶、鋯(Zr)、鎳(Ni)、鎢(W)、鈦鋁(TiA1)、不銹鋼靶等。

2、工模具鍍膜

主要是用于工具、模具的表面強化，能顯著提高工具、模具的使用壽命和被加工零件的質(zhì)量。近年來，在航空航天和汽車產(chǎn)業(yè)發(fā)展的帶動下，全球制造業(yè)的技術水平和生產(chǎn)效率有了長足進步，對高性能刀具、模具的需求量日益增加。目前，全球工模具鍍膜市場主要在歐美和日本。據(jù)統(tǒng)計，發(fā)達國家機加工用刀具的鍍膜比例已超過90％ 。我國刀具鍍膜比例也在不斷提升，刀具鍍膜用靶材的需求量日益擴大。工模具鍍膜用靶材主要品種有：TiAl靶、鉻鋁(CrA1)靶、Cr靶、Ti靶等。

3、玻璃鍍膜

靶材在玻璃上的應用主要是制作低輻射鍍膜玻璃，即利用磁控濺射原理在玻璃上濺射多層薄膜，以達到節(jié)能、控光、裝飾的作用。低輻射鍍膜玻璃又稱節(jié)能玻璃，近年來，隨著節(jié) 能減排和改善人們生活質(zhì)量需求的增加，傳統(tǒng)的建筑玻璃正逐漸被節(jié)能玻璃所取代。正是在這種市場需求的推動下，目前幾乎所有的大型玻璃深加工企業(yè)都在快速增加鍍膜玻璃生 產(chǎn)線。與此相對應，鍍膜用靶材的需求量快速增長，靶材主要品種有：銀(ag)靶、Cr靶、Ti靶、鎳鉻(NiCr)靶、鋅錫(ZnSn)靶、硅鋁(Sia1)靶、氧化鈦(Ti O )靶等。

靶材在玻璃上的另一個重要應用是制備汽車后視鏡，主要是鉻靶、鋁靶、氧化鈦靶等。隨著汽車后視鏡檔次要求的不斷提高，很多企業(yè)紛紛從原來的鍍鋁工藝轉(zhuǎn)成真空濺射鍍 鉻工藝。

4、電子器件鍍膜

電子器件鍍膜主要用于薄膜電阻和薄膜電容。薄膜電阻可以提供10～1000M Q電阻，而且電阻溫度系數(shù)小、穩(wěn)定性好，可以有效減小器件的尺寸。 薄膜電阻用靶材有NiCr靶、鎳鉻硅(NiCrSi)靶、鉻硅(CrSi)靶、鉭(Ta)靶、鎳鉻鋁(NiCrA1)靶等。

5、磁記錄鍍膜

21世紀是經(jīng)濟信息化、信息數(shù)字化的高科技時代。信息超高密度儲存和高速傳輸?shù)囊?，推動信息高技術的進一步發(fā)展。先進的電子計算機和獲取、處理、存儲、傳遞各種信息的自動化設備都需要儲存器，信息存儲包括磁信息存儲、磁光信息存儲和全光信息存儲等。磁存儲器如磁盤、磁頭、磁鼓、磁帶等是利用磁性材料的鐵磁特性實現(xiàn)信息存儲的。濺射薄膜記錄用的靶材包括C r基、鈷(CO)基、鈷鐵(CoFe)基、Ni基等合金。

6、平面顯示鍍膜

便攜式個人計算機、電視、手機等對平板顯示器件需求急劇增長的刺激，極大地促進了各類平板顯示器件的發(fā)展。平板顯示器種類有：液晶顯示器件(LCD)、等離子體顯示器件 (PDP)、薄膜晶體管液晶平板顯示器(TFT—LCD)等。所有這些平板顯示器件都要用到各種類型的薄膜，沒有薄膜技術就沒有平板顯示器件。平板顯示器多由金屬電極、透明導電極、絕緣層、發(fā)光層組成，為了保證大面積膜層的均勻性，提高生產(chǎn)率和降低成本，濺射技術越來越多地被用來制備這些膜層。平面顯示鍍膜用靶材主要品種有：鈦靶、鉻靶、鉬)靶、Al靶、鋁合金靶，銅(CU)靶、銅合金和摻錫氧化銦(IT0)靶材等。

7、半導體鍍膜

信息技術的飛速發(fā)展，要求集成電路的集成度越來越高，電路中單元器件尺寸不斷縮小，元件尺寸由毫米級到微米級，再到納米級。每個單元器件內(nèi)部由襯底、絕緣層、介質(zhì)層、導體層及保護層等組成，其中，介質(zhì)層、導體層甚至保護層都要用到濺射鍍膜工藝，因此濺射靶材是制備集成電路的核心材料之一。半導體鍍膜用靶材主要品種有w、鎢鈦(wTi)、Ti、Ta、A1、Cu等，要求靶材純度很高，一般在4N或5N以上，因此半導體鍍膜用靶材價格昂貴。

8、太陽能電池鍍膜

隨著傳統(tǒng)石化燃料能源的日益減少，全世界都把目光投向了可再生能源，太陽能以其獨有的優(yōu)勢成為人們重視的焦點，主要是把太陽光能轉(zhuǎn)換為熱能和電能。其中光一電轉(zhuǎn)換是 通過光電效應直接把光能轉(zhuǎn)換成電能的太陽能電池來完成，目前，太陽能電池已經(jīng)發(fā)展到了第三代。第一代是單晶硅太陽能電池，第二代是非晶硅和多晶硅太陽能電池，第三代是薄膜太陽能電池(銅銦鎵硒[C IGs]為代表)，而濺射鍍膜工藝是被優(yōu)先選用的制備方法。全球低碳經(jīng)濟的興起，為新能源、新材料的發(fā)展提供了廣闊前景，全球各大靶材供應商都將太陽能電池鍍膜用靶材作為重要的研發(fā)產(chǎn)品，太陽能電池鍍膜正以爆炸式的方式增長。以2005年太陽能電池裝機量為基準，年遞增率分別為23％、40％、67％預估。太陽能電池鍍膜用靶材主要品種有：氧化鋅鋁(AzO)靶、氧化鋅(ZnO)靶、鋅鋁(ZnA1)靶、鉬(Mo)靶、硫化鎘(CdS)靶、銅銦鎵硒(CulnGaSe)等。

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